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在订购阶段，真空炉系列有许多不同的可选项，包括高阶版本的软件，数据记录仪和精密的数字控制器。 这些有助于对真空炉的操作进行更多级别的控制，并提供完整的数据记录功能。 此外，可以提供不同的真空泵，真空系统和冷却系统，以满足特定要求。 我们所有的真空炉均具有坚固的结构，可在可控的气氛中实现快速均匀的升温，使其成为众多重型工业和实验室应用的理想选择。 真空炉的常见应用包括钎焊，烧结，退火，除气，干燥，回火，焊接，淬火和硬化。 真空炉还可用于金属注射成型（MIM）或陶瓷注射成型（CIM）以及金属化，硅化，碳化和其他工业过程。 不同的真空炉有不同的应用。 真空钟罩炉可提供高纯度气氛环境、且底部装载的设计可轻松装载样品。 实验室真空炉的设计比其他型号更紧凑，非常适合研发环境。卡博莱特盖罗真空管式炉以非真空管式炉作为模型，但经过改装并配备了专用真空单元。 工作管的直径和长度选择范围广。 HTRH-H2管式炉，可通氢气。
真空炉可以在真空中进行热处理。冷壁真空炉和热壁真空炉是有区别的。冷壁真空炉使用一个水冷的真空接受器，在整个热处理过程中保持低温。加热元件位于该接受器内。另一方面，热壁真空炉的加热元件位于真空受体（如陶瓷或石英管）之外，而受体本身被加热。
在空气/氧化环境中，普通电阻型加热元件的最高温度为1800℃。对于高于这个温度，必须使用真空炉，并且必须应用非氧化性气氛。真空炉允许电阻型加热元件的温度高达3000℃。
许多应用需要真空热处理，例如真空焊接和钎焊、真空退火、烧结等。一般来说，任何类型的热处理都需要在规定的、大部分非氧化的气氛中进行真空炉。此外，使用真空炉进行与空气成分不同的确定的氧气浓度的热处理（例如，100%纯O2）也是有意义的。
当然，真空本身也是真空炉的一种可能的气氛。根据不同的应用，真空度可以是粗真空、细真空、高真空，甚至是超高真空。此外，由于真空炉可以完全去除空气气氛，因此也可以使用各种气体或混合物，如氩气、氮气、氢气、一氧化碳、氦气等。
通常，石墨、钼或钨加热元件被用于（冷壁）真空炉中。这些元素即使在高温下也拥有低压力。在真空中，有可能分别达到2200℃、1600℃和2200℃。